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氫氣爐爐體采用全不銹鋼 SUS304 結構，密封效果好，可通氫氣，氮氣，氬氣或其他惰性氣體。可真空狀態(tài)下使用?？刂葡到y(tǒng)可采用儀表控溫或觸摸屏系統(tǒng)。采用 PLC 控制，安全可靠。

熱誘導化學氣相沉積是用于各種電介質,半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數(shù)毫米。